В России создали новую установку для производства микроэлектроники
В Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ, входит в группу компаний «Элемент») создали опытный образец первой в стране установки для плазмохимического осаждения (ПХО) на кремниевых пластинах диаметром 300 мм.
Как рассказали разработчики, ПХО — это один из базовых процессов при производстве микросхем. До недавнего времени такие машины закупались за рубежом. Отечественные же установки помогут в укреплении технологического суверенитета страны. Кроме того, для государств, которые заинтересованы в развитии микроэлектроники, российские производители могут стать альтернативными поставщиками оборудования.
«Новый комплекс предназначен для обработки кремниевых пластин диаметром 300 мм с возможностью изменения конфигурации для работы с пластинами 200 мм. Это дает возможность тестировать работу установки на производствах с учетом действующих 200-миллиметровых технологических процессов и обеспечить своевременную подготовку к переходу на работу на 300-миллиметровых пластинах», — рассказал «Известиям» начальник отдела перспективных разработок НИИТМ Георгий Ерицян.
Он отметил, что разработчикам удалось в короткий период локализовать производство составных частей. Вместе с тем базовые технологические процессы, созданные в рамках проекта, не уступают импортным аналогам.
Подробнее читайте в эксклюзивном материале «Известий»:
Мягкие осадки: в России создали новую установку для производства чипов
